SEM-EDSによるフォトマスク検査 - 半導体製造プロセスの重要な過程

フォトマスクはウェハー上にパターンを印刷するためのステンシルであり、半導体デバイスの製造工程においては必要不可欠です。集積回路を作るためのパターンが含まれており、ナノスケールの回路の作成に使われています。マスクの不良はウェハー上で増幅され繰り返されるため、フォトマスクには正確に制御されたパターンが要求され、いかなる欠陥も許容されません。光学的検査方法では十分な空間分解能が得られないため、電子顕微鏡を用いたEDS分析が解決策となります。

アプリケーションノートをダウンロードすることで得られる情報:

• フォトマスクの欠陥や清浄度などの品質検査法
• 電子線を用いたSEM‐EDS分析は、マスク上のさまざまな欠陥の迅速な識別に役立ちます。
• 低加速電圧下での分析に適したUltim Extreme検出器で、わずか数分でハイパースペクトルマップデータが取得できます。
• 組成情報は欠陥の原因究明に役立ちます。最終的には欠陥の発生をなくし製造の歩留まりの向上に貢献します。

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