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OmniProbe
Effortless Nanoscale Manipulation

FIBおよびSEM用OmniProbeナノマニピュレーター、1995年以来、クラスをリードする性能を発揮しています。

OmniProbeを使用することで、迅速かつ自信を持って、サンプルロスのリスクなく作業を行うことができ、高度なワークフローを簡素化し、高スループットのリフトアウトを実現します。 FIB-SEMでのTEMラメラ作成用に設計・最適化された第9世代のナノマニピュレーターは、圧電モーターとクローズドループ制御により、信頼性の高い再現性の高い性能を実現しています。

  • 精密なナノスケール制御、プローブチップが期待通りの場所に、期待通りに移動し、完全な信頼性を発揮
  • プローブの回転を利用して、想像できるほぼすべてのサンプル形状を提供
  • ポートマウント設計により、他の検出器やアクセサリーとの干渉を最小限に
  • 極低温チップにより、Cryo-TEM用ラメラの作製が可能に

第9世代のプローブであるOmniProbe 400と350は、FIBとSEM用の最高性能のマニピュレータとして長年の伝統を引き継いでいます。 ナノメートル以下レベルの圧電モーターを搭載したコンパクトなポートマウント設計を採用した現行世代のプローブは、低振動、低ドリフトで安定したプラットフォームを提供し、直観的なユーザーインターフェースと組み合わせた優れた位置決め精度を実現します。 

その結果、究極のリフトアウトおよびナノマニピュレーションソリューションを実現:

  • 従来のラメラリフトアウトを迅速に、自信を持って、サンプルロスのリスクなしに完了します。
    • 優れた直線性、スムーズな連続動作、直感的なインターフェースにより、高いリフトアウト成功率を実現
  • プローブの回転を使用して、困難な形状に対して高速なワークフローを実行します。
    • 裏面薄膜化をスピードアップ
    • ベントフリー plan-viewリフトアウト
  • 極低温サンプルのリフトアウトを室温のように簡単に行うことができます。
  • 3Dトモグラフィーやアトムプローブトモグラフィー用のサンプルを抽出します。
  • SEMでTEMとアトムプローブナノワイヤの相関性のあるサンプルを作成。
  • コーティングされていない絶縁体試料のSEMイメージングの改善。
    • プローブチップを使用して、サンプル表面に蓄積された電荷を中和
  • SEM-EDSおよびEBSD(TKD)解析を改善するためのサンプルを作成します。
  • ナノ構造の電気的パラメータの測定。

優れたリニアリティ - リニアリティとは、要求された移動方向からのプローブ先端の偏差の尺度です。  すべての方向に直線的に移動するプローブは、以下のことが可能です。

  • 溝の側面にぶつかることなく安全にリフトアウト
  • 微細な溝を利用したTEMラメラの高速作成を実現

直感的なユーザーインターフェースで、操作が電子顕微鏡像中のプローブの動きに直接反映

スムーズな連続動作 - ラメラ前処理ワークフローでは、プローブを物理的に接触させる必要がありますが、スムーズな動きにより、サンプルの落下や損傷のリスクなく行うことができます。

正確な動作 (保存位置含む)

  • 完全に格納された状態からワンクリックで操作位置に移動
  • ユーザー定義の作業位置を保存

360°同心円回転でプローブの先端を顕微鏡視野内に保持

  • プローブの回転と顕微鏡ステージの動きを組み合わせることで、想像できるほとんどすべての形状を実現
  • チャンバーベントとサンプルのハンドリングに代わってプローブを回転させることでワークフローを高速化
  • FIBを使用した再調整により、プローブ先端の寿命を延長

In situ チップ交換により、高速で、チャンバー無しに、また大気汚染を低減してプローブチップを交換できます。

安定したプローブプラットフォーム - 安定性は振動とドリフトの組み合わせです。  プローブ先端へのサンプルの取り付けは、数分かかることもあるガスデポジションプロセスによって行われます。  このプロセス中にプローブ先端のドリフトや振動が発生すると、サンプル内に応力が発生したり、サンプルが切断された時点で急激に移動したりする可能性があります。

  • 安定したOmniprobeプラットフォームは、アイドル時の振動やドリフトを最小限に抑え、これらのリスクを軽減します。

顕微鏡を使用していない時には完全にチャンバー内に収納されるポートマウント設計のため、顕微鏡に妥協がありません。

  • サンプルサイズの制限無し
  • ステージチルトの制限無し
  • 他の検出器やアクセサリーとの干渉なし

生物試料や電池などの極低温チップ。極低温サンプルのリフトアウトは、室温にあるのと同じワークフローで簡単に行うことができます。

プローブの電気的接続には、電圧コントラスト像のため+/-10V電源が含まれています。

  • 低ノイズオプションは、サードパーティの電子機器と組み合わせてEBIC、EBACおよび他の電気試験方法を実行することができます。

以下の便利な比較表を使用して、アプリケーションに最適なOmniProbeを選択し、仕様を比較してください。

仕様                                                    OMNIPROBE
Cryo OmniProbe 350 OmniProbe 400
リニアリティ 500 nm 500 nm 250 nm
エンコーダー分解能 <50 nm <50 nm 10 nm
挿入再現性 15 μm* 5 μm 2 μm
最小速度 50 nm/s 50 nm/s 10 nm/s
最高速度 250 μm/s 250 μm/s 500 μm/s
同心円回転
温度センサー内蔵
アプリケーション
Site specific lift-out
Plan-view P P
Vent free plan-view
Backside Thinning P
アトムプローブトモグラフィー試料の前処理 P P
極低温リフトアウト
電圧コントラストイメージング
チャージの中和
On-Tip分析
EBIC測定 O O
EBAC測定 O O
In Situチップ交換 O

P: OmniPivotホルダが必要  O: オプション * 一定温度において

 

See OmniProbe Accessories here

 

 

OmniProbe Products

Liftout for a TEM in situ heating chip

Advanced LiftOut

GIS test pattern

Backside thinned sample analysed via our extreme EDS

Extreme EDS on TEM lamella

EBAC and EBIC signal measured via OmniProbe 400

OmniProbe electrical testing

Yeast cell prepared for TEM in cryo FIB

Cryogenic Liftout

アプリケーション

リフトアウト

OmniProbeの主な用途は、TEM用のラメラのリフトアウトです。リフトアウトの課題は、予期せぬ動きがサンプルロスを引き起こす可能性がある、ミリングされたトレンチからサンプル(ラメラ)を取り出すことです。より正確な動きをすることで、より小さな形状をターゲットにすることができ、より大きなサンプルのためのミリングが少なくて済みます。

高度なリフトアウト:ローテーション 

OmniProbe 400で360°回転が可能になったことで、サンプルの方向性が追加され、より薄いサンプルを高品質で提供できるようになりました。 同心円回転とは、試料が回転しながら電子像の中心に留まることを意味します。

高度なリフトアウト:ワークフロー

複合プローブステージ(CSP)のレシピでは、高度なリフトアウトを3ステップで日常的に行うことができ、最適な形状のラメラを作製することができます。

  • ステージの動きを利用したサンプルの方向付け
  • サンプルのリフトアウトを実行
  • OmniProbeを回転させ、TEMグリッドにサンプルを取り付け

作成されたトレンチが視界から見えなくなる可能性があるため、リフトアウト時にナノマニピュレーターに絶対的な信頼性が必要となるため、これらのレシピでは動きの直線性が非常に重要になります。

極低温リフトアウト

OmniProbeクライオチップと特許取得済みのワークフローにより、標準的なラメラと同じワークフローで極低温TEMラメラを作製することができます。  クライオチップは受動的に水のガラス化点以下に冷却することができ、損傷のないリフトアウトを保証します。

 

In situチップ交換

リフトアウトプロセスでは、プローブチップに材料が付着して削り取られるため、時間の経過とともにチップは消耗してしまいます。OmniProbe 400の同心円回転は、イオンビームを使用して先端部を再整形することで先端部の寿命を延ばすことができますが、それでも最終的には交換が必要になります。OmniProbeは、電子顕微鏡の真空を破ることなく、数分でプローブチップを交換できるユニークな機能を持っており、ダウンタイムを最小限に抑えて効率を最大化します。